Пока ездил-путешествовал, чуть было не упустил из виду важную веху в полупроводниках и чипостроительстве.
IBM совместно с партнёрами представила 5 нм техпроцесс с круговым затвором. Но что ещё более важно - то, что индустрия медленно, но верно идёт в сторону EUV систем (ультра-глубокий ультрафиолет), которые позволят значительно упростить производство масок для литографии.
Для сравки: сейчас стандарт - фтор-аргоновый эксимерный лазер с длинной волны 193 нм, с помощью которого печатаются чипы по техпроцессам от 10 нм (1/20 длины волны) и выше. Так как разрешение печати лежит глубоко за дифракционными пределами, то создание маски требует огромных ресурсов, как вычислительных, так и производственных.
Боюсь себе представить количество нулей в цене новой фабрики...🙀🙀🙀
#хабр #habr #полупроводники #semiconductors #ibm #5нм #5nm
IBM совместно с партнёрами представила 5 нм техпроцесс с круговым затвором. Но что ещё более важно - то, что индустрия медленно, но верно идёт в сторону EUV систем (ультра-глубокий ультрафиолет), которые позволят значительно упростить производство масок для литографии.
Для сравки: сейчас стандарт - фтор-аргоновый эксимерный лазер с длинной волны 193 нм, с помощью которого печатаются чипы по техпроцессам от 10 нм (1/20 длины волны) и выше. Так как разрешение печати лежит глубоко за дифракционными пределами, то создание маски требует огромных ресурсов, как вычислительных, так и производственных.
Боюсь себе представить количество нулей в цене новой фабрики...🙀🙀🙀
#хабр #habr #полупроводники #semiconductors #ibm #5нм #5nm
m.habrahabr.ru
Компания IBM представила первый в мире 5-нанометровый чип
Компания IBM, работавшая совместно с Samsung и GlobalFoundries, представила первый в мире кремниевый чип, выполненный по 5-нм техпроцессу. Этот чип также стал...